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加工精度を飛躍的に向上させるナノコーティング材料を開発
http://release.nikkei.co.jp/detail.cfm?relID=117436&lindID=1

保護膜形成剤の化学吸着によってレジストパターン表面上に膜厚１ｎｍ程度の保護層を形成させ、レジストパターンをその薄層で保護するというものです（図２）。具体的には、レジストパターンを持つシリコン基板上に保護膜形成剤を含むコーティング溶液を滴下し、所望の反応時間（数秒から数十秒程度）放置します。
　反応終了後、洗浄溶媒を滴下しながら基板を回転させ、表面を洗浄します。これによってレジストパターン表面上に極めて薄い保護層が形成され、高いエッチング耐性を付与することができます。

従来品が気化プロセスのものだったらしいので、シラン剤の自己集合単分子膜なんでしょうか？